Diferencia entre el MOSFET en modo de agotamiento y el MOSFET en modo de mejora

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Modo de mejora MOSFET:

Para un MOSFET de mejora, el canal no existe inicialmente. Solo surge una vez que se aplica un voltaje mayor que Vth, el voltaje de umbral. Por ejemplo, en un MOSFET de canal n, el sustrato estΓ‘ hecho de material tipo p. Considere que la fuente estΓ‘ en un potencial de tierra de referencia de 0 voltios. Para un voltaje de puerta a fuente de 0 voltios, no hay canal en el sustrato de tipo p. Una vez que el voltaje comienza a aumentar, los agujeros se alejan de la regiΓ³n cercana a la puerta debido al potencial positivo creciente y, por lo tanto, dejan atrΓ‘s una regiΓ³n de exceso de electrones. Esta regiΓ³n de exceso de electrones forma el canal para el nMOSFET. Esa es la razΓ³n por la que se llama MOSFET de canal n.

Para un MOSFET de mejora de canal p, dado que el sustrato es de tipo n, para formar un canal de tipo p, necesitamos alejar los electrones de cerca de la regiΓ³n de la puerta, lo que significa que tenemos que aplicar una puerta negativa a la fuente de voltaje/ potencial. Por lo tanto, para un MOSFET de mejora, el canal no existe en Vgs = 0V y entra en juego solo cuando se excede el voltaje de umbral, Vth. Esta es la razΓ³n por la cual se le llama Mejora escribe MOSFET ya que la aplicaciΓ³n de un voltaje mejora el canal de un estado de casi inexistencia a un estado de existencia.

MOSFET de modo de agotamiento:

Para MOSFET tipo empobrecimiento, todo es igual excepto que el canal ya estΓ‘ implantado en el sustrato por difusiΓ³n. Por lo tanto, una corriente puede fluir entre la fuente y el drenaje incluso a Vgs = 0 voltios, ya que los portadores de carga ya estΓ‘n presentes y no es necesario aplicar un voltaje de polarizaciΓ³n para crear una regiΓ³n de exceso de portadores cerca de la regiΓ³n de la puerta.

Por ejemplo, para el MOSFET de tipo empobrecimiento de canal n que se muestra arriba, el canal ya se ha implantado en el sustrato por difusiΓ³n y asΓ­ es como se ve el dispositivo sin ningΓΊn sesgo. Compare eso con el aspecto de un MOSFET mejorado CON BIAS como se muestra en la figura anterior. Para el dispositivo anterior, si comenzamos a aumentar el voltaje de la fuente de la puerta, mΓ‘s y mΓ‘s agujeros se alejarΓ‘n del canal y, por lo tanto, el canal se profundizarΓ‘, mejorarΓ‘, ya que la salida dejarΓ‘ mΓ‘s y mΓ‘s electrones descubiertos en exceso. agujeros

Si ahora comenzamos a disminuir el voltaje de la fuente de la puerta, los agujeros serΓ‘n atraΓ­dos hacia la puerta debido al potencial decreciente y, por lo tanto, el canal comenzarΓ‘ a volverse mΓ‘s y menos profundo, es decir, se agotarΓ‘. En otras palabras, podemos decir que el canal se estΓ‘ agotando de portadores libres, es decir, electrones. Esta es la razΓ³n por la que se llama Tipo de empobrecimiento nMOSFET. Ahora deberΓ­a quedar claro que el nMOSFET de empobrecimiento debe tener un voltaje de umbral negativo Vth, mientras que un MOSFET de tipo de mejora de canal n tiene un voltaje de umbral positivo.

En breve,

Modo de mejora MOSFET:

El canal no existe inicialmente. Cuando aplicamos un voltaje de entrada conocido como canal de voltaje de umbral, se crea mediante la repulsiΓ³n de los portadores mayoritarios en la regiΓ³n principal entre la FUENTE y el DRENAJE cerca de la PUERTA. El estado predeterminado es APAGADO, es decir, no fluye corriente sin aplicar voltaje.

MOSFET de modo de agotamiento:

El canal ya existe. Tenemos que aplicar algo de voltaje de entrada para colapsar el canal y detener el flujo de corriente entre la FUENTE y el DRENAJE. El estado predeterminado es ON, es decir, la corriente fluye sin aplicar voltaje.

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